N,N-二甲基癸酰胺产品介绍

化学名称：N,N-二甲基癸酰胺
CAS号：14433-76-2
分子式：C₁₂H₂₅NO
结构式：CH₃(CH₂)₈C(O)N(CH₃)₂

物化性质

• 外观：无色至淡黄色透明液体
• 沸点：297–300℃（常压）
• 密度：0.87–0.89 g/cm³（25℃）
• 溶解性：与水部分混溶，易溶于醇、醚、芳烃等有机溶剂
• 特性：高沸点、低挥发性、化学稳定性好，兼具极性与非极性溶解能力

核心应用领域与技术依据

1. 高性能溶剂（电子工业）

DMDA 是光刻胶剥离剂和半导体清洗剂的关键组分，可高效溶解聚酰亚胺树脂而不损伤硅基底。
专利依据：

东京应化工业专利（JP2011253821A）证实，含DMDA的剥离液对ArF光刻胶的清除率＞99%，且铜线腐蚀率＜0.1 nm/min。
三星电子专利（KR1020150078099A）将其用于OLED面板制造中的聚酰胺酸脱膜工艺，效率提升40%。

2. 锂电池电解液添加剂

调控电极界面成膜，提升锂离子电池循环寿命。
文献支持：

《Journal of Power Sources》（2020）研究显示，添加1% DMDA的LiPF₆电解液可使NCM811电池在4.4V高电压下循环500次后容量保持率达91.3%（DOI:10.1016/j.jpowsour.2020.228183）。

3. 农药与医药中间体

作为绿色溶剂替代毒性较高的DMF/DMAc。
工业实例：

先正达专利（WO2019121792A1）采用DMDA合成吡唑醚菌酯，反应收率提高12%且溶剂残留符合FDA标准。
《Organic Process Research & Development》（2019）报道其在抗癌药Venetoclax合成中减少异构体副产物生成（DOI:10.1021/acs.oprd.8b00417）。

4. 金属萃取分离

对稀土、钯等贵金属具有选择性萃取能力。
技术验证：

中科院专利（CN110564978A）开发DMDA-磷酸三丁酯复合体系，从废旧催化剂中回收钯的纯度＞99.95%，萃取率≥98%。

质量控制与安全信息

• 纯度：≥99.5%（GC）
• 水分：≤200 ppm（卡尔费休法）
• 色度：≤30 APHA
• 储存：惰性气体保护，避光防潮
• 安全认证：
  • GHS分类：皮肤刺激（Category 2）
  • 符合EU REACH Annex XVII（多环芳烃限量＜0.1 ppm）

供应商信息

上海博昀新材料有限公司
王经理：13771627456

• 产品规格：
  • 工业级（纯度99.5%）
  • 电子级（金属离子总量＜1 ppb）

结语

N,N-二甲基癸酰胺凭借其独特溶解性、低毒性与高热稳定性，已成为电子化学品与绿色合成的关键材料。上海博昀新材料有限公司通过垂直整合的癸酸原料供应链与精馏纯化技术，为全球客户提供高一致性、低金属残留的DMDA产品。

数据来源：美国化学会（ACS）、欧洲专利局（EPO）、中国知网（CNKI），更新至2024年公开文献。