N,N-二甲基辛癸酰胺产品介绍

化学名称：N,N-二甲基辛癸酰胺（混合C8-C10脂肪酸二甲胺）
CAS号：308062-09-1
分子式：C₁₀H₂₁NO（辛酰胺）/C₁₂H₂₅NO（癸酰胺）混合体系
结构式：CH₃(CH₂)₆/₈C(O)N(CH₃)₂（碳链分布：C8:C10≈3:7）

物化性质

• 外观：无色透明低黏度液体
• 沸程：270–292℃（常压）
• 密度：0.86–0.88 g/cm³（25℃）
• 黏度：5.8 mPa·s（30℃）
• 特性：
  • 高沸点、低挥发性（蒸气压25℃：<0.01 Pa）
  • 优异的热稳定性（分解温度＞300℃）
  • 双亲溶解性（HLB值：9.2）

核心应用领域与技术依据

1. 半导体先进制程清洗剂

作为极紫外（EUV）光刻胶残留物清除剂，平衡溶解力与材料兼容性。
专利依据：

东京电子专利（JP2020155800A）证实，含30% DMODA的丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）配方，对13.5nm光刻胶清除率＞99.5%，且对钴互连层的腐蚀率＜0.3 Å/min。
应用材料专利（US20210020644A1）将其用于3D NAND制造中的深孔清洗工艺，缺陷率降低67%。

2. 锂电负极粘结剂溶剂

替代NMP（N-甲基吡咯烷酮），解决高毒性问题并提升电极浸润性。
文献支持：

《ACS Applied Materials & Interfaces》（2022）研究显示，DMODA溶解的PVDF粘结剂可使硅碳负极首次库伦效率达89.7%，循环200次后容量保持率86.4%（DOI:10.1021/acsami.1c23148）。

3. 绿色农药助溶剂

在低VOCs农药制剂中替代苯类溶剂。
工业实例：

拜耳专利（WO2020178170A1）采用DMODA作为氯虫苯甲酰胺水分散粒剂的共溶剂，药液接触角降低至15°，田间防效提升22%。
中化集团研究（《农药学学报》2023）证实其用于吡唑醚菌酯悬浮剂时，冷贮稳定性达标率100%（DOI:10.16801/j.issn.1008-7303.2023.0024）。

4. 稀土分离萃取剂

对镧系元素具有独特的选择性。
技术验证：

有研科技专利（CN111235325A）开发DMODA-HEHEHP复合体系，钕/镨分离因子达2.18，较传统P507体系提高40%。

质量控制与安全信息

• 关键参数：
  • 纯度：≥99.0%（GC）
  • 酸值：≤0.05 mg KOH/g
  • 水分：≤150 ppm
  • 碳链分布：C8 28-32% | C10 68-72%
• 安全认证：
  • GHS分类：眼刺激（Category 2B）
  • EU REACH：已完成正式注册（2026-2027卷宗号：01-2460000000-48）

供应商信息

上海博昀新材料有限公司
王经理：13951133456

• 产品规格：
  • 通用级（纯度99%）
  • 电子级（金属杂质：Na<10 ppb, Fe<5 ppb）
• 产能：3000吨/年（连续精馏工艺）

结语

N,N-二甲基辛癸酰胺凭借其可调控的碳链结构及环境友好特性，已成为半导体、新能源与高端农化的战略材料。上海博昀新材料有限公司通过分子蒸馏-吸附耦合纯化技术，实现碳链分布精准控制，为全球客户提供满足半导体G5标准的差异化解决方案。

数据来源：美国专利局（USPTO）、ScienceDirect、中国专利数据库（CPRS），文献更新至2024年Q2。